| 发明名称 | 用于非常大面积基片的真空处理室 | ||
| 摘要 | 根据本发明的大尺寸基片PECV0处理的等离子体反应器，包括作为外室的真空处理室和带有电极喷头作为RF天线的至少一个内部反应器，所述内部反应器还包括反应器底部和反应器顶部，由此加强件支撑反应器顶部和/或反应器底部，加强件经由补偿隔件(4)连接到反应器顶部(2)和/或反应器底部(6)，补偿隔件(4)的厚度选择为补偿在运行期间的热膨胀。 | ||
| 申请公布号 | CN101728206A | 申请公布日期 | 2010.06.09 |
| 申请号 | CN200910208880.0 | 申请日期 | 2005.11.23 |
| 申请人 | OC欧瑞康巴尔斯公司 | 发明人 | P·埃恩格;L·德劳内伊;S·约斯特;M·埃亚考比 |
| 分类号 | H01J37/32(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;C23C16/509(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 陈江雄;梁冰 |
| 主权项 | 一种用于大尺寸基片处理的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)的等离子体反应器，包括作为外室的真空处理室(19)和带有处理气体供给部(22)的至少一个内部反应器；以及电连接到作为RF天线的电极喷头(25)的RF供给部(24)，其特征在于，加强件(1)支撑反应器顶部(2)和/或反应器底部(6)，所述加强件(1)经由补偿隔件(4)连接到反应器顶部(2)和/或反应器底部(6)，补偿隔件(4)的厚度选择为补偿在运行期间的热膨胀。 | ||
| 地址 | 列支敦士登巴尔策斯 | ||