发明名称 单块的偏振受控角漫射器及有关方法
摘要 单块的偏振受控角漫射器包括:具有第一表面和第二表面的系统;用于在照明平面上提供角分布的受控角漫射器图案,该受控角漫射器图案在基板的第一和第二表面之一上;和在基板的第一和第二表面之一上的偏振图案。该受控角漫射器图案包括至少两个受控角漫射器元件。每个受控角漫射器元件都输出不同的角分布。偏振图案包括至少两个偏振元件。每个偏振元件都对应于各个受控角漫射器元件。所述至少两个偏振元件输出彼此旋转的偏振。
申请公布号 CN101084472B 申请公布日期 2010.06.09
申请号 CN200580034731.7 申请日期 2005.08.30
申请人 德塞拉北美公司 发明人 马可·D·伊梅尔;艾伦·D·卡特曼
分类号 G03F7/20(2006.01)I;G02B27/09(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人 孙志湧;陆锦华
主权项 一种单块的偏振受控角漫射器,包括:具有至少两个平行的平坦表面的系统;用于在照明平面上提供角分布的受控角漫射器图案,该受控角漫射器图案在所述至少两个平行的平坦表面之一上,该受控角漫射器图案包括至少两个受控角漫射器元件,每个受控漫射器元件都输出不同的角分布;在所述至少两个平行的平坦表面之一上的偏振图案,该偏振图案包括至少两个偏振元件,每个偏振元件都对应于各受控角漫射器元件,所述至少两个偏振元件输出相对彼此旋转的偏振,和基板,所述基板上形成有该偏振图案,该偏振图案包括次波长结构和变化的蚀刻深度,其中由下述公式确定蚀刻深度d:d=λ/2Δn其中λ是漫射器使用的波长,Δn是对于偏振图案的正交偏振状态的基板的折射率之间的差。
地址 美国北卡罗来纳