发明名称 METHOD FOR FORMING DUAL POLY GATE OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR100960923(B1) 申请公布日期 2010.06.04
申请号 KR20060137263 申请日期 2006.12.28
申请人 发明人
分类号 H01L21/8228;H01L21/8238 主分类号 H01L21/8228
代理机构 代理人
主权项
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