| 发明名称 | 利用磁控溅射法制备复合银钛氧化物抗菌薄膜的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种利用磁控溅射法制备复合银钛氧化物抗菌薄膜的方法，主要包括如下步骤：1)对载膜基材的表面进行预处理，然后在超声波条件下依次用两种以上的有机溶剂、去离子水进行清洗，使用所述各有机溶剂以及去离子水进行清洗的时间均为5～15分钟，最后在真空条件下于15～85℃干燥0.5～3小时；2)给磁控溅射设备装上金属钛靶和银靶，以氩气为工作气，向磁控溅射设备的真空室内通入含氧气的反应气体，利用磁控溅射设备的中频磁控溅射电源溅射金属钛，并利用磁控溅射电源溅射银，得到银钛金属氧化物复合镀膜。本发明方法简单、高效，所得薄膜均匀度高、分散性好、附着力强，可作具有广谱、高效、持久抗菌性能、安全、对环境友好的抗菌材料。 | ||
| 申请公布号 | CN101717920A | 申请公布日期 | 2010.06.02 |
| 申请号 | CN200910156607.8 | 申请日期 | 2009.12.29 |
| 申请人 | 浙江大学 | 发明人 | 吴韬;杨文平;王琦;丁靓;王海华 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C14/02(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I |
| 代理机构 | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人 | 林怀禹 |
| 主权项 | 一种利用磁控溅射法制备复合银钛氧化物抗菌薄膜的方法，其特征是包括如下步骤：1)对载膜基材的表面进行预处理，然后在超声波条件下依次用两种以上的有机溶剂、去离子水进行清洗，使用所述各有机溶剂以及去离子水进行清洗的时间均为5～15分钟，最后在真空条件下于15～85℃干燥0.5～3小时；2)给磁控溅射设备装上金属钛靶和银靶，以氩气为工作气，向磁控溅射设备的真空室内通入含氧气的反应气体，利用磁控溅射设备的中频磁控溅射电源溅射金属钛，并利用磁控溅射电源溅射银，得到银钛金属氧化物复合镀膜。 | ||
| 地址 | 310027 浙江省杭州市西湖区浙大路38号 | ||