一种步进重复曝光装置

摘要

本发明提供了一种步进重复曝光装置，其依次包含如下曝光元件：大剂量曝光光源、照明系统、掩模承载装置、对准系统、投影物镜、硅片承载装置，以及设置在投影物镜下半部两侧的调焦调平系统；还包含密封前述曝光元件的光刻机密封腔体。本发明采用单独的温控系统来控制掩模，投影物镜和照明系统的温度，同时对于密封腔体内的整个曝光装置采用整体送风方式控温度。本发明的步进重复曝光装置，可实现大剂量、大视场的曝光，极大的提高曝光产率；同时利用逐场调焦调平技术，极大的提高曝光质量；满足低成本，高产量的生产需要。

主权项

一种步进重复曝光装置，依次包含如下曝光元件：照明系统、掩模承载装置、对准系统、投影物镜、硅片承载装置，以及设置在投影物镜下半部两侧的调焦调平系统；其特征在于，还包括曝光光源和光刻机密封腔体；所述的曝光元件均设置在该光刻机密封腔体内；所述的光刻机密封腔体的外部围绕设置一腔体循环温度控制系统，其采用整体送风方式控制密封腔体内的曝光环境温度；所述曝光光源是大功率宽波带曝光光源；所述的照明系统采用像方远心光路，其包含一包围设置在外部的照明系统冷却降温装置；所述的投影物镜具有保证掩模和硅片的空间热隔离的共轭距，采用全折射、全对称结构，其包含一设置在外壁外侧的投影物镜冷却降温装置；所述的掩模承载装置包含一掩模冷却装置。