用于最小化等离子径向非一致性的导电元件阵列

摘要

提供一种能够在基片处理过程中局部控制具有等离子处理室的等离子处理系统内的功率传送的装置。该装置包括介电窗和电感布置。该电感布置设在该介电窗上方以使得该等离子处理系统内功率能与等离子耦合。该电感布置包括一组电感元件，其提供对功率传送的局部控制以在该等离子处理室中创建基本上一致的等离子。

主权项

一种能够在基片处理过程中局部控制具有等离子处理室的等离子处理系统内的功率传送的装置，包括：介电窗；和电感布置，其设在该介电窗上方以使得所述等离子处理系统内功率能与等离子耦合，其中所述电感布置包括一组电感元件，该组电感元件提供对功率传送的所述局部控制以在所述等离子处理室中创建基本上一致的等离子。