发明名称 |
静电卡盘及等离子体装置 |
摘要 |
本发明公开了一种静电卡盘及等离子体装置,静电卡盘设有多路背吹气体通路,其中一路与升针孔贯穿或连接。多路背吹气体通路可以由一路供气管路供气,也可以由多路供气管路供气。背吹气体通路相对于基片和静电卡盘之间的间隙是很大的,在基片加工工艺结束后,通过背吹气体通路进行抽气时,可以很快的将升针孔中的气体抽净,缩短了基片加工工艺的时间,提高了生产效率。 |
申请公布号 |
CN101719480A |
申请公布日期 |
2010.06.02 |
申请号 |
CN200810223918.7 |
申请日期 |
2008.10.09 |
申请人 |
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
发明人 |
张宝辉 |
分类号 |
H01L21/683(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I;C30B25/12(2006.01)I;C23F4/00(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/683(2006.01)I |
代理机构 |
北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 |
代理人 |
赵镇勇 |
主权项 |
一种静电卡盘,包括背吹气体通路、升针孔,其特征在于,所述背吹气体通路与所述升针孔贯穿或连接。 |
地址 |
100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 |