| 发明名称 | 移送基板用托盘及具有该托盘的真空处理装置 | ||
| 摘要 | 提供一种改善了结构的移送基板用托盘及具备该托盘的真空处理装置，能够均匀地蚀刻基板。根据本发明的移送基板用托盘，用于将多个基板移送到开设有排气孔的真空处理装置的内部，该排气孔使收容于内部的加工气体流出到外部，其包括：平板部，具有平板形状，用于放置所述多个基板；以及遮挡壁，自上述平板部向上方延伸突出，以便延长在所述基板的上侧向基板侧喷射的加工气体的滞留时间。 | ||
| 申请公布号 | CN101719479A | 申请公布日期 | 2010.06.02 |
| 申请号 | CN200910206006.3 | 申请日期 | 2009.10.09 |
| 申请人 | 金炳埈 | 发明人 | 田荣一 |
| 分类号 | H01L21/677(2006.01)I;H01L21/683(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/677(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人 | 陈英俊 |
| 主权项 | 一种移送基板用托盘，用于将多个基板移送到开设有排气孔的真空处理装置的内部，该排气孔使收容于内部的加工气体流出到外部，其特征在于，该移送基板用托盘包括：平板部，具有平板形状，用于放置所述多个基板；以及遮挡壁，自上述平板部向上方延伸突出，以便延长在所述基板的上侧向基板侧喷射的加工气体的滞留时间。 | ||
| 地址 | 韩国忠清南道 | ||