可变容积等离子处理室和相关方法

摘要

一种等离子处理室，包括基片支撑件，其具有在该室内在基本上水平的方位支撑基片的顶部表面。该等离子处理室还包括许多伸缩构件，设在该室该基片支撑件边缘之外。该许多伸缩构件还以相对该基片支撑件的顶部表面的中心同心的方式设置。该许多伸缩构件的每个限定为在大体上垂直的方向独立移动，以便能调节该基片支撑件的顶部表面上方的开放容积，并由此能调节该基片支撑件的顶部表面上方的开放容积内的等离子状态。

主权项

一种等离子处理室，包括：基片支撑件，具有限定为在该室内在基本上水平的方位支撑基片的顶部表面；和许多伸缩构件，设在该室内、该基片支撑件边缘之外并与该基片支撑件的顶部表面的中心同心，该许多伸缩构件每个限定为在基本上垂直的方向独立移动以便能够调节该基片支撑件的顶部表面上方的开放容积。