真空卷绕镀铝膜装置

摘要

本实用新型涉及一种镀膜装置，尤其涉及真空卷绕镀铝膜装置。包括真空室，在真空室内设有放卷辊，放卷辊通过过渡辊连接着镀膜辊，镀膜辊通过过渡辊连接着收卷辊，所述的镀膜辊连接着制冷机，在镀膜辊的下方设有蒸发源，所述的镀膜辊包括同步运动的主镀膜辊和副镀膜辊，所述的蒸发源位于主镀膜辊和副镀膜辊之间，薄膜在绕出副镀膜辊进入主镀膜辊之前的镀膜面为水平面，镀膜面位于蒸发源的正上方。本实用新型主要是提供了一种镀铝层均匀，镀铝膜的表面质量高，可以使薄膜在最佳距离吸附铝分子，能得到最大蒸发量，成膜速率高的真空卷绕镀铝膜装置；解决现有技术所存在的镀铝膜过程中出现的“镀空线”，镀铝层不均匀，成膜效率低的技术问题。

主权项

一种真空卷绕镀铝膜装置，包括真空室，在真空室内设有放卷辊，放卷辊通过过渡辊连接着镀膜辊，镀膜辊通过过渡辊连接着收卷辊，所述的镀膜辊连接着制冷机，在镀膜辊的下方设有蒸发源，其特征在于：所述的镀膜辊包括同步运动的主镀膜辊和副镀膜辊，所述的蒸发源位于主镀膜辊和副镀膜辊之间，薄膜在绕出副镀膜辊进入主镀膜辊之前的镀膜面为水平面，镀膜面位于蒸发源的正上方。