薄膜构图方法及制造液晶显示装置的方法

摘要

本发明涉及一种薄膜构图方法及制造液晶显示装置的方法，该薄膜构图方法包括：步骤1，基板上沉积第一薄膜，并涂布光刻胶；步骤2，采用双调掩模板对光刻胶进行曝光和显影后，形成第一区域、第二区域和第三区域；步骤3，对第一薄膜进行过刻，在第三区域去除第一薄膜，并且在第一区域的周边形成过刻区域；步骤4，对光刻胶进行灰化，露出位于第二区域的第一薄膜；步骤5，沉积第二薄膜，在第二区域第一薄膜与第二薄膜接触；步骤6，剥离光刻胶，去除位于第一区域的第二薄膜，并且在第一区域的过刻区域露出基板。该薄膜构图方法采用了双调掩模板，通过剥离工艺和过刻工艺，形成薄膜重叠的区域和薄膜都被去除的区域。

主权项

一种薄膜构图方法，其特征在于，包括：步骤1，在基板上沉积第一薄膜，并涂布光刻胶；步骤2，采用双调掩模板对所述光刻胶进行曝光和显影后，形成第一区域、第二区域和第三区域，所述第一区域的光刻胶比所述第二区域的光刻胶厚，所述第三区域没有光刻胶；步骤3，对所述第一薄膜进行过刻，在所述第三区域去除所述第一薄膜，并且在所述第一区域的周边形成过刻区域；步骤4，对光刻胶进行灰化，露出位于所述第二区域的所述第一薄膜；步骤5，沉积第二薄膜，在所述第二区域所述第一薄膜与所述第二薄膜接触；步骤6，剥离光刻胶，去除位于所述第一区域的第二薄膜，并且在所述第一区域的过刻区域露出所述基板。