微电子装置及其制造方法

摘要

本发明提供一种微电子装置及其制造方法。该微电子装置的制造方法包括使用光刻扫描器，以一第一速度，对基底上的虚设区进行曝光，使用光刻扫描器，以一第二速度，对基底上的虚设区进行曝光，其中第一速度大体上比第二速度快；另一实施例揭示微电子装置的另一制造方法，包括使用光刻扫描器，以一第一速度，对微电子装置的非关键层进行曝光，使用光刻扫描器，以一第二速度，对微电子装置的关键层进行曝光，其中第一速度大体上比第二速度快。通过本发明，可以利用不同的速度进行曝光，从而获得更佳的产量和质量。

主权项

一种微电子装置的制造方法，包括如下步骤：提供一基底，包括一虚设区和一产品区；使用一光刻扫描器，以一第一速度，对该基底上一单一层的虚设区进行曝光；及使用该光刻扫描器，以一第二速度，对该基底上该单一层的产品区进行曝光，其中该第一速度比该第二速度快。