清洁系统及清洁方法

摘要

一种清洁系统及清洁方法。清洁系统包括清洗设备及乾燥设备，清洗设备包括至少一清洗槽，可提供水溢流效果。乾燥设备包括治具、容置槽、旋转底座、驱动装置及空气循环系统。容置槽包括盖体；旋转底座系设置于容置槽中，可承载治具；驱动装置可驱动旋转底座使其旋转；空气循环系统系于容置槽密闭时使槽内空气循环对流，空气循环系统包括空气循环管路、风箱及加热装置，加热装置系可加热于空气循环管路中流动之空气。

主权项

一种治具，用以置放可承载半导体晶片之置放盘，包括：一第一载片，包括一第一中心孔及复数第一搂空槽；一第二载片，包括一第二中心孔及与该复数第一搂空槽之位置相对应之复数第二搂空槽；以及一主轴体，包括一轴孔，该主轴体之一端连接该第一载片且另一端连接该第二载片，其中该轴孔、该第一中心孔及该第二中心孔实质上系为同轴心。