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Modelo de ensayo para determinar el estado y el ajuste del sistema del mecanismo humedecedor de una impresora offset, caracterizado por una plancha (1) de impresión con una disposición simétrica especular de dos formaciones (2, 3) de retículos, que se extienden sensiblemente por toda la plancha (1) de impresión, discurriendo el plano de simetría especular (línea) transversalmente a la dirección de impresión y las formaciones (2, 3) de retículo, referidas al recubrimiento superficial, decrece partiendo de un borde (4, 5) de la plancha (1) de impresión hasta el plano de simetría (línea) y vuelve a crecer desde dicho plano de simetría en dirección hacia el borde (4, 5) opuesto.
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