| 发明名称 |
TEXTURING MULTICRYSTALLINE SILICON |
| 摘要 |
Techniques are disclosed for surface texturing multicrystalline silicon using drop jetting technology to form mask or etch patterns on a surface of a multicrystalline silicon substrate.
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| 申请公布号 |
US2010130014(A1) |
申请公布日期 |
2010.05.27 |
| 申请号 |
US20080324571 |
申请日期 |
2008.11.26 |
| 申请人 |
PALO ALTO RESEARCH CENTER INCORPORATED |
发明人 |
NAKAYASHIKI KENTA;XU BAOMIN;ELROD SCOTT A. |
| 分类号 |
H01L21/311 |
主分类号 |
H01L21/311 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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