发明名称 Extremultraviolett-Lichtquelleneinrichtung und Verfahren zum Steuern einer Extremultraviolett-Lichtquelleneinrichtung
摘要 [Problem] Eine Extremultraviolett-Lichtquelleneinrichtung nach der vorliegenden Erfindung korrigiert eine optische Performance eines Laserstrahls in einer geeigneten Weise. [Mittel zur Lösung] Ein Führungslaserstrahl, der eine optische Achse und einen Strahldurchmesser im Wesentlichen äquivalent zu denen eines gepulsten Treiberlaserstrahls hat, wird in ein Verstärkungssystem 30 eingeführt, das einen Laserstrahl verstärkt, der von einem Treiberlaser-Oszillator 20 ausgegeben wird. Der Führungslaserstrahl wird von einer Lasereinrichtung 50 als ein kontinuierliches Licht ausgegeben und in einen Lichtpfad eines gepulsten Treiberlaserstrahls über einen Führungslaserstrahl-Einführungsspiegel 52 eingeführt. Ein Sensor 44 detektiert einen Winkel (eine Richtung) eines Laserstrahls und eine Veränderung einer Krümmung einer Wellenfront. Ein Wellenfront-Korrekturcontroller 60 gibt ein Signal an eine Wellenfront-Korrektureinheit 34 auf der Grundlage eines Messergebnisses von einem Sensor 36 ab. Die Wellenfront-Korrektureinheit 34 korrigiert entsprechend einem Befehl von dem Wellenfront-Korrekturcontroller 60 eine Wellenfront eines Laserstrahls so, dass sie zu einer vorgegebenen Wellenfront wird.
申请公布号 DE102009044426(A1) 申请公布日期 2010.05.27
申请号 DE20091044426 申请日期 2009.11.05
申请人 GIGAPHOTON INC. 发明人 MORIYA, MASATO;WAKABAYASHI, OSAMU
分类号 H05G2/00;H01S3/10;H01S4/00 主分类号 H05G2/00
代理机构 代理人
主权项
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