Verfahren zur atmosphärischen Beschichtung von Nanooberflächen

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Aufbringen einer Schicht auf eine Nanooberfläche eines Werkstücks, bei dem ein atmosphärischer Plasmastrahl durch elektrische Entladung in einem Arbeitsgas erzeugt wird und ein Precursormaterial räumlich getrennt vom Arbeitsgas zugeführt wird, wobei das Precursormaterial direkt dem Plasmastrahl zugeführt wird und die aufgebrachte Schicht eine der Nanooberfläche des Werkstücks im Wesentlichen entsprechende Nanooberfläche aufweist. Die Erfindung betrifft insbesondere ein Verfahren zum Aufbringen einer Trennschicht bei Abformprozessen, wobei das abzuformende Werkstück eine Nanooberfläche aufweist.