| 发明名称 | 光掩膜版及其光掩膜 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种光掩膜版及光掩膜，所述光掩膜版在基板上具有感光性组合物层，该感光性组合物层含有(A)下述式(I-1)～(I-3)所示的至少一种光学增白剂、(B)聚合引发剂、(C)具有乙烯性不饱和键的化合物、(D)粘合剂聚合物和(E)遮光材料。式(I-1)～(I-3)所示的化合物可以被烷基、芳基、烷氧基取代。<img file="200910164560.X_AB_0.GIF" wi="541" he="180" /> | ||
| 申请公布号 | CN101713913A | 申请公布日期 | 2010.05.26 |
| 申请号 | CN200910164560.X | 申请日期 | 2009.07.20 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 松本洋介 |
| 分类号 | G03F1/00(2006.01)I;G03F7/028(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 朱丹 |
| 主权项 | 1.一种光掩膜版，其在基板上具有：包含(A)下述式(I-1)～下述式(I-15)所示的至少一种光学增白剂、(B)聚合引发剂、(C)具有乙烯性不饱和键的化合物、(D)粘合剂聚合物和(E)遮光材料的感光性组合物层，<img file="F200910164560XC0000011.GIF" wi="800" he="721" /><img file="F200910164560XC0000021.GIF" wi="800" he="425" />其中，式(I-1)～式(I-15)所示的化合物可以具有取代基，也可以不具有取代基，式中X表示选自以下所示的结构中的2价连结基，下述结构中的*表示与式(I-6)和式(I-13)中的杂环的结合位置，<img file="F200910164560XC0000022.GIF" wi="800" he="132" /> | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||