极紫外光掩膜片保护装置及方法

摘要

本发明揭示使用一较冷的气流在一掩膜片(916)与一掩膜片遮敝物(920)之间建立一温度梯度以便减少该掩膜片上之粒子污染的方法与设备。根据本发明的其中一项观点，一用以减少一物体(928)之表面上粒子污染的设备包含：一平板(920)以及一气体供应器(954)。该平板系被设置在该物体的附近，使具有第二温度之该平板与具有第一温度之该物体实质上分隔一空间。该气体供应器供应一气流给该空间。该气体具有第三温度，该第三温度低于该第一温度与该第二温度两者。该气体会协同该平板与该物体来创造一温度梯度，从而创造一用来搬运该空间中之粒子使其远离该物体的热泳作用力。

主权项

一种被配置成用以减少一物体之表面上粒子污染的设备，该设备包括：一部件，其具有一靠近该物体的表面，该部件被配置成用以设置在该物体的附近，使该部件与该物体实质上会分隔一空间，其中，该物体具有第一温度，而该部件具有第二温度；以及一气体供应器，该气体供应器被配置成用以供应一气流给该空间，位于该空间中的该气体具有一温度分布，其最小值低于该第一温度且低于该第二温度，其中，该气体被配置成用以协同该部件与该物体，来创造一用以搬运该空间中之粒子使其远离该物体的热泳作用力。