图形修正方法、系统、掩模、半导体器件制造方法和半导体器件

摘要

本发明提供图形修正方法，在密集图形和孤立图形之间的中间部位进行合适的修正。该方法根据成为设计图形的对象图形和配置于该对象图形附近的附近图形之间的配置状态来修正该对象图形的形状，包括：第一检测步骤(S102)，检测所述对象图形的边缘的第一规定部和所述附近图形之间的第一配置状态；第二检测步骤(S104)，检测所述对象图形的边缘的第二规定部和所述附近图形之间的第二配置状态；确定步骤(S106)，根据与所述第一配置状态和所述第二配置状态对应的规则来确定所述对象图形的边缘的修正值；以及修正步骤(S108)，对所述对象图形的边缘附加所述修正值。

主权项

一种图形修正方法，根据作为处理对象的对象图形和配置于该对象图形附近的附近图形之间的距离来修正该对象图形的形状，该处理对象由多个分割部构成，其特征在于，该方法包括：检测所述对象图形的边缘的端部和所述附近图形之间的第一距离的第一检测步骤；检测所述对象图形的边缘的中间部和所述附近图形之间的第二距离的第二检测步骤；根据与所述第一距离和所述第二距离对应的规则来确定所述对象图形的边缘的修正值的确定步骤；以及对所述对象图形的边缘附加所述修正值的修正步骤。