| 发明名称 | 压电体膜的制造方法 | ||
| 摘要 | 一种压电体膜的制造方法，该方法包括以下步骤：将用于形成压电体的涂布液涂布在基板上形成涂布膜的涂布步骤；干燥所述涂布膜的干燥步骤；预焙烧所述涂布膜形成氧化物膜的预焙烧步骤；焙烧所述氧化物膜形成压电体膜的主焙烧步骤；和冷却所述压电体膜的冷却步骤；上述各步骤在含有水分的气体存在下进行，在所述涂布步骤中所述基板的温度为50℃或50℃以下，含有水分的气体在25℃下的相对湿度为60％RH或60％RH以下；在所述干燥步骤中所述基板的温度为200℃或200℃以下，所述相对湿度为10～70％RH；在所述预焙烧步骤中所述基板的温度为200～450℃，所述相对湿度为70～100％RH；所述主焙烧步骤中所述基板的温度为500～800℃，所述相对湿度为70～100％RH。 | ||
| 申请公布号 | CN1495928B | 申请公布日期 | 2010.05.26 |
| 申请号 | CN03157462.9 | 申请日期 | 2003.09.22 |
| 申请人 | 佳能株式会社;富士化学株式会社 | 发明人 | 小林本和;汤浅俊哉;久保田纯;襟立信二;内田文生;清水千惠美;前田宪二 |
| 分类号 | H01L41/22(2006.01)I;H01L41/08(2006.01)I;B41J2/045(2006.01)I | 主分类号 | H01L41/22(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所 11277 | 代理人 | 刘新宇 |
| 主权项 | 一种压电体膜的制造方法，该方法包括以下步骤：将用于形成压电体的涂布液涂布在基板上形成涂布膜的涂布步骤；干燥所述涂布膜的干燥步骤；预焙烧所述涂布膜形成氧化物膜的预焙烧步骤；焙烧所述氧化物膜形成压电体膜的主焙烧步骤；和冷却所述压电体膜的冷却步骤；其特征在于，上述各步骤在含有水分的气体存在下进行，在所述涂布步骤中所述基板的温度为50℃或50℃以下，含有水分的气体在25℃下的相对湿度为60％RH或60％RH以下；在所述干燥步骤中所述基板的温度为200℃或200℃以下，所述相对湿度为10～70％RH；在所述预焙烧步骤中所述基板的温度为200～450℃，所述相对湿度为70～100％RH；所述主焙烧步骤中所述基板的温度为500～800℃，所述相对湿度为70～100％RH。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||