遮光元件及其镀膜方法

摘要

本发明提供一种遮光元件的镀膜方法，其包括以下步骤：提供一镀膜机、一金属钯材、一试验基材及一待镀膜基材；将金属钯材及试验基材放入镀膜机的真空腔后，调整镀膜机的电子束的功率及镀膜机气体源的气体释放量，使因电子束轰击产生的金属钯材离子与所释放的气体完全反应；取出试验基材，放入待镀膜基材，通过调整电子束功率或气体源的气体释放量之一，在所述待镀膜基材上形成一层膜层，且从靠近待镀膜基材一侧到远离待镀膜基材一侧，所述膜层中金属钯材单质的沉积浓度逐渐增加，而金属钯材化合物的沉积浓度逐渐减小；当膜层的电阻值保持不变后，镀膜完成。通过调整电子束功率或气体释放量，可得到不同效果的遮光元件。本发明还提供一种遮光元件。

主权项

一种遮光元件的镀膜方法，其包括以下步骤：提供一镀膜机、一金属钯材、一试验基材及一待镀膜基材；将金属钯材及试验基材放入镀膜机的真空腔后，调整镀膜机的电子束的功率及镀膜机气体源的气体释放量，使电子束轰击产生的金属钯材离子与所释放的气体完全反应；取出试验基材，并将待镀膜基材放入真空腔，通过调整电子束的功率或气体源的气体释放量之一，在所述待镀膜基材上形成一层膜层，且从靠近待镀膜基材一侧到远离待镀膜基材一侧，所述膜层中金属钯材单质的沉积浓度逐渐增加，而金属钯材反应物的沉积浓度逐渐减小；当膜层的电阻值保持不变后，镀膜完成。