发明名称 栅格起偏镜及其制法
摘要 本发明涉及一种栅格起偏镜,其包括包含透明材料的第1层、包含透明材料的第3层以及位于第1层和第3层之间的第2层;第2层,其包括细长线状延伸的多个A层和细长线状延伸的多个B层,这些A层和B层被交替并列配置,所述A层包含复折射率(N=n-iκ)的实部n和虚部κ之差的绝对值为1.0以上的材料,所述B层包含气体;第3层,其通过包含与无机材料结合的反应基团和与有机材料结合的反应基团的化合物与A层结合、或包含透明的无机氧化物或无机氮化物、或包含多孔性物质。
申请公布号 CN101228463B 申请公布日期 2010.05.26
申请号 CN200680026794.2 申请日期 2006.07.24
申请人 日本瑞翁株式会社 发明人 村上俊秀;涩谷明庆
分类号 G02B5/30(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I 主分类号 G02B5/30(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 张平元
主权项 一种栅格起偏镜,其包括:包含透明材料的第1层、包含透明材料的第3层、以及位于第1层和第3层之间的第2层;第1层,在该层表面以相互分隔的状态并列地形成多个细长线状延伸的垄部分,第2层,具有在上述垄部分的各个顶面上沿着该垄部分细长线状延伸的A层和在形成于相邻的A层和垄之间的沟部上细长线状延伸的B层,这些A层和B层交替并列配置,所述A层包含复折射率即N=n-iκ的实部n和虚部κ之差的绝对值为1.0以上的材料,所述B层包含气体,第3层通过具有与无机材料结合的反应基团和与有机材料结合的反应基团的化合物与A层结合、或第3层包含透明的无机氧化物或无机氮化物、或第3层包含多孔性物质,在所述沟部的底面上设置细长线状延伸的A’层,该A’层包含复折射率即N=n-iκ的实部n和虚部κ之差的绝对值为1.0以上的材料。
地址 日本东京都