发明名称 电路形成基板的制造方法及电路形成基板的制造用材料
摘要 为实现电路形成基板中层间连接的高可靠性,在本发明的电路形成基板的制造方法中,采用以下之一的构成。A)在热压工序限制树脂流动。B)将增强纤维一起融着或接着。C)在充填工序后使基板材料的厚度减少。D)以混存于基板材料的填料形成低流动层。此外,在本发明的电路形成基板的制造用材料中,在热压工序添加可控制树脂流动的物理参数、或含有在充填工序后可有效减少基板材料厚度的挥发成分。
申请公布号 CN1794902B 申请公布日期 2010.05.26
申请号 CN200510128687.8 申请日期 2002.07.17
申请人 松下电器产业株式会社 发明人 西井利浩
分类号 H05K3/40(2006.01)I;H05K1/03(2006.01)I;H05K3/00(2006.01)I;H05K3/46(2006.01)I;C08J5/24(2006.01)I 主分类号 H05K3/40(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 沈昭坤
主权项 一种电路形成基板的制造方法,其特征在于,包括至少叠层含B级状态基板材料的基板材料的叠层工序,形成在所述B级状态基板材料形成层间连接部用的孔的孔形成工序,以及使所述B级状态基板材料的厚度减少的叠层准备工序。
地址 日本国大阪府