发明名称 Method for forming fine contact hole pattern of semiconductor device
摘要
申请公布号 KR100959724(B1) 申请公布日期 2010.05.25
申请号 KR20080047024 申请日期 2008.05.21
申请人 发明人
分类号 H01L21/027;H01L21/28 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
地址
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