发明名称 |
Teilchenstrahlschreibverfahren, Teilchenstrahlschreibvorrichtung und Wartungsverfahren für selbige |
摘要 |
Auf einer Grundlage von Layoutdaten wird eine erste Bestrahlungsdosis für einen Bestrahlungsbereich bestimmt. Es wird eine Korrekturdosis bestimmt. Die Korrekturdosis gleicht eine Dosisabweichung zwischen einem ersten Zeitpunkt, an dem eine zur Kontrolle einer Bestrahlungsdauer konfigurierte Kontrolleinheit bei einem Teilchenstrahl annimmt, er hätte eine nominale Stromdichte erreicht und einem zweiten Zeitpunkt, bei dem der Teilchenstrahl tatsächlich seine nominale Stromdichte am Zielsubstrat erreicht hat, aus. |
申请公布号 |
DE102008053180(A1) |
申请公布日期 |
2010.05.20 |
申请号 |
DE20081053180 |
申请日期 |
2008.10.24 |
申请人 |
ADVANCED MASK TECHNOLOGY CENTER GMBH & CO. KG |
发明人 |
SCZYRBA, MARTIN;BUERGEL, CHRISTIAN;FOCA, EUGEN |
分类号 |
H01J37/304;H01J37/30;H01L21/027 |
主分类号 |
H01J37/304 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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