发明名称 有机硅微孔沸石、合成方法及其应用
摘要 本发明涉及一种有机硅微孔沸石、合成方法及其应用,主要解决现有技术中合成的微孔沸石骨架结构中不含有机硅的问题,提供了一种骨架结构中含有机硅的微孔沸石。它包括以下摩尔关系的组成:(1/n)Al2O3∶SiO2∶(m/n)R,式中n=5~250,m=0.01~50,R为烷基或苯基中的至少一种;其Si29NMR固体核磁图谱在-80~+50ppm之间至少包含有一个Si29核磁共振谱峰;X-射线衍射图谱在12.4±0.2,10.5±0.3,9.3±0.3,6.8±0.2,6.1±0.2,5.5±0.2,4.4±0.2,4.0±0.2,3.5±0.1,3.4±0.1和3.3±0.1埃处有d-间距最大值。该微孔沸石可作为有机化合物转化用的催化剂组份。
申请公布号 CN101239726B 申请公布日期 2010.05.19
申请号 CN200710037242.8 申请日期 2007.02.07
申请人 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司上海石油化工研究院 发明人 高焕新;周斌;魏一伦
分类号 C01B39/06(2006.01)I;C01B39/04(2006.01)I;C01B39/46(2006.01)I;C01B39/00(2006.01)I;B01J20/18(2006.01)I;B01J29/04(2006.01)I;B01J29/06(2006.01)I 主分类号 C01B39/06(2006.01)I
代理机构 上海浦东良风专利代理有限责任公司 31113 代理人 张惠明
主权项 一种有机硅微孔沸石,包括以下摩尔关系的组成:(1/n)Al2O3∶SiO2∶(m/n)R,式中n=5~250,m=0.01~50,R为烷基或苯基中的至少一种;所述沸石的Si29NMR固体核磁图谱在-80~+50ppm之间至少包含有一个Si29核磁共振谱峰;所述沸石的X-射线衍射图谱在12.4±0.2,10.5±0.3,9.3±0.3,6.8±0.2,6.1±0.2,5.5±0.2,4.4±0.2,4.0±0.2,3.5±0.1,3.4±0.1和3.3±0.1埃处有d-间距最大值。
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