发明名称 高温度稳定性掺钴抗EMI软磁材料及其制备方法
摘要 本发明公开了一种高温度稳定性掺钴抗EMI软磁材料及其制备方法。该系高温度稳定性掺钴抗EMI软磁材料的化学式为(Fe1-xCox)83Si9.6Al5.4V2,其中0.05≤x≤0.25。取纯金属Fe、Co、Si、Al、V按照通式配料后,放入中频真空感应炉中熔炼,得到的母合金经电弧溢流式快淬炉熔炼后迅速连续地浇注至激冷铜辊表面,将得到快速冷凝的薄带或薄片进行球磨扁平化处理,将扁平粉末放入真空管式炉内加热,保温,冷却后,将扁平粉末与粘结剂混炼加工成的薄片状可挠性抗电磁干扰材料。本发明工艺参数易控,合金具有较高的工作温度和高的饱和磁化强度,磁屏蔽效果大大提高。适合于工业化规模快速连续生产。
申请公布号 CN101710520A 申请公布日期 2010.05.19
申请号 CN200910155711.5 申请日期 2009.12.18
申请人 浙江大学 发明人 严密;陶姗
分类号 H01F1/147(2006.01)I;H01F1/22(2006.01)I;C22C1/03(2006.01)I;C22C33/06(2006.01)I;C22C38/00(2006.01)I 主分类号 H01F1/147(2006.01)I
代理机构 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人 张法高
主权项 一种高温度稳定性掺钴抗EMI软磁材料,其特征在于:其化学式为(Fe1-xCox)83Si9.6Al5.4V2wt.%,其中0.05≤x≤0.25。
地址 310027 浙江省杭州市浙大路38号