化学机械抛光心轴传动装置

摘要

本发明提供了一种化学机械抛光心轴传动装置，涉及化学机械抛光设备技术领域。包括心轴自转机构，心轴升降机构和心轴公转机构，心轴的座套和转动架间设有四连杆机构，四连杆机构的上下相对的两杆件间装有可控制四连杆机构开合的气囊机构，所述的转动架固定在公转轴上。本发明克服了已有技术之不足，具有结构简单、紧凑、使用方便、工作效率高、心轴力易精确控制、有利于提高工作质量的特点；尤其适用于化学机械抛光设备上，也可适于其它具有与CMP相似工艺要求的其他半导体设备上。

主权项

一种化学机械抛光心轴传动装置，包括心轴自转机构，其特征在于具有心轴升降机构和心轴公转机构，结构为：心轴(20)的座套(25)和转动架(9、12)间设有四连杆机构(16)，四连杆机构(16)的上下相对的两杆件间装有可控制四连杆机构开合的伸缩机构，所述的转动架(9、12)固定在公转轴(11)上。