新型采光瓦制备装置

摘要

本实用新型公开了一种新型采光瓦制备装置，包括机床(1)、进料控制装置(2)、上导轮(31)、下导轮(32)、上薄膜(41)和下薄膜(42)，还包括在机床(1)纵向上两组左右对称的限料装置，限料装置包括基架(5)、支架(6)和限料挡板；可以防止液体化学原料在压制时向两侧外泄，从而保证压制的采光瓦具有一定宽度而不用再次切割，同时，限料装置在支架的支撑下，悬空于上薄膜和下薄膜之间，不影响薄膜的向前推进，同时外挡板和伸入板外壁光滑，不会损坏薄膜，可以通过调节支架伸出的长短以满足不同宽度的采光瓦制备时限料的需要，本实用新型结构新颖，制造简单，使用方便，同时节约环保。

主权项

新型采光瓦制备装置，包括机床(1)、进料控制装置(2)、上导轮(31)、下导轮(32)、上薄膜(41)和下薄膜(42)，其特征在于：还包括在机床(1)纵向上两组左右对称的限料装置，所述限料装置位于机床(1)纵向的两侧、进料控制装置(2)和下导轮(32)之间且靠近下导轮(32)的位置，所述限料装置包括基架(5)、支架(6)和限料挡板，所述支架(6)一端与限料挡板固定连接，另一端与基架(5)可伸缩连接，所述限料挡板由外挡板(71)和伸入板(72)组成，所述外挡板(71)的一边沿机床(1)的水平方向长度为5-10cm，高度为1-2cm，另一边沿上薄膜(41)的方向长度为1.5-3cm，且所述外挡板(71)与上薄膜(41)和下薄膜(42)在下导轮(32)处围成的轮廓一致，所述伸入板(72)高度为0.15-0.2cm，且伸入上导轮(31)和下导轮(32)之间的空隙内2-3cm。