| 发明名称 | 一种抛光垫及其制造方法以及一种抛光装置和抛光方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于化学机械抛光的多层抛光垫(10)，其包含多孔抛光层(12)和多孔底层(14)，其中该底层(14)与该抛光层(12)基本上共同扩张，该抛光层(12)不使用粘合剂而与该底层接合；该抛光层(12)具有平均表面粗糙度Ra，其大于该底层的Ra。 | ||
| 申请公布号 | CN101184582B | 申请公布日期 | 2010.05.19 |
| 申请号 | CN200680018565.6 | 申请日期 | 2006.04.19 |
| 申请人 | 卡伯特微电子公司 | 发明人 | 阿巴内施沃·普拉萨德;迈克尔·莱西 |
| 分类号 | B24D3/32(2006.01)I;B24B37/04(2006.01)I;B24D13/14(2006.01)I | 主分类号 | B24D3/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 宋莉 |
| 主权项 | 一种用于化学机械抛光的多层抛光垫，其包含多孔抛光层和多孔底层；其中该底层与该抛光层基本上共同扩张；该抛光层与该底层直接互连，使得该抛光层与该底层之间的界面无粘合剂；该抛光层具有平均表面粗糙度Ra，其大于该底层的Ra；经扫描电子显微镜测定，该抛光层具有大于104个单元每立方厘米的孔单元密度，并且该底层具有小于104个单元每立方厘米的孔单元密度。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||