发明名称 一种低温下稳定的纯单斜氧化锆涂层、制备方法及应用
摘要 本发明涉及了一种低温下稳定的纯单斜氧化锆涂层、制备方法及应用,其特征在于以钛合金为基体,氧化锆涂层由低温稳定的单斜相氧化锆组成,所述的低温为低于100℃而等于或高于人体体内环境的温度区域。所述的低温下稳定的氧化锆涂层,其特征在于氧化锆涂层与钛合金基体的结合强度介于20-40MPa。所述的低温下稳定的氧化锆涂层,其特征在于氧化锆涂层表面致密,无裂纹存在。采用市售单斜氧化锆粉体为原料,经预处理球磨后,粉料球化或不经球化直接采用等离子喷涂工艺制备成单斜相低温稳定的氧化锆涂层,所提供的涂层具有良好的生物活性,在体内环境中稳定存在,作为人工植入体表面涂层,涂层表面在模拟体液中能诱发类骨磷灰石形成。
申请公布号 CN101219239B 申请公布日期 2010.05.19
申请号 CN200710046705.7 申请日期 2007.09.29
申请人 中国科学院上海硅酸盐研究所 发明人 王国成;刘宣勇;丁传贤
分类号 A61L27/30(2006.01)I;C23C4/10(2006.01)I 主分类号 A61L27/30(2006.01)I
代理机构 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人 潘振甦
主权项 一种低温下稳定的氧化锆涂层,以钛合金为基体,其特征在于所述的氧化锆涂层由低温稳定的单斜相氧化锆组成,所述的低温为低于100℃而等于或高于人体体内环境的温度区域;所述的氧化锆涂层表面致密,无裂纹存在。
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