| 发明名称 | 金属带材的磁控溅射真空抛光的方法和设备 | ||
| 摘要 | 本发明涉及金属带材(4)在真空腔(2)中的磁控溅射真空抛光方法，所述金属带材(4)面对着对电极(5)在支承辊(3)上行进，其中，在所述金属带材(4)附近在气体中形成等离子体，以产生作用于该金属带材(4)的基团和/或离子，其特征在于，在一系列的具有不同宽度且固定的至少两个封闭的磁路(7)中，选用宽度基本等于所述金属带材(4)宽度的至少一封闭的磁路(7)，然后引导被选用的磁路(7)以使之面对着所述金属带材(4)定位，其后对运动中的所述金属带材(4)进行抛光。本发明也涉及用于实施所述方法的抛光设备(1)。 | ||
| 申请公布号 | CN101346795B | 申请公布日期 | 2010.05.19 |
| 申请号 | CN200680049256.5 | 申请日期 | 2006.10.26 |
| 申请人 | 安赛乐米塔尔法国公司 | 发明人 | H·科尔尼;B·德韦;C·马博格;J·莫托勒 |
| 分类号 | H01J37/34(2006.01)I;C23C14/02(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 余全平 |
| 主权项 | 金属带材(4)在真空腔(2)中的磁控溅射真空抛光方法，所述金属带材(4)面对着对电极(5)在支承辊(3)上行进，其中，在所述金属带材(4)附近在气体中形成等离子体，以产生作用于该金属带材(4)的基团和/或离子，其特征在于，在一系列的具有不同宽度且固定的至少两个封闭的磁路(7)中，选用宽度等于所述金属带材(4)宽度的至少一封闭的磁路(7)，然后引导被选用的磁路(7)以使之面对着所述金属带材(4)定位，其后对运动中的所述金属带材(4)进行抛光。 | ||
| 地址 | 法国圣但尼 | ||