发明名称 一种具有气压敏感效应的碳/硅异质结新材料
摘要 本发明提供了一种具有气压敏感效应的碳/硅异质结新材料,该材料是通过磁控溅射的方法,将纯度为99.9%的石墨靶或者将含有0~10%(质量分数)的铁的铁-石墨复合靶溅射到抛光的硅基片上,形成一层厚度为20nm~200nm的膜。该碳/硅异质结新材料具有明显的气压敏感效应,即材料的电阻值随气压变化而变化,可以用于制备气压传感器,无需额外设计电容器,通过该材料的电阻变化可直接反映出气压的变化,具有体积小,可做成立方毫米级,易于集成,材料耐高温、耐腐蚀、性质稳定。
申请公布号 CN101013726B 申请公布日期 2010.05.19
申请号 CN200710013464.6 申请日期 2007.02.02
申请人 中国石油大学(华东) 发明人 薛庆忠;郝兰众;高熙礼;李群;郑庆彬
分类号 H01L29/84(2006.01)I;G01L9/06(2006.01)I;G01L1/18(2006.01)I 主分类号 H01L29/84(2006.01)I
代理机构 青岛高晓专利事务所 37104 代理人 杨大兴
主权项 一种具有气压敏感效应的碳/硅异质结新材料,其特征是,在一块0.5~1.0mm厚的抛光硅基片上,溅射一层类金刚石碳薄膜,薄膜的厚度为20~200nm。
地址 257061 山东省东营市东营区北二路271号