发明名称 |
一种具有气压敏感效应的碳/硅异质结新材料 |
摘要 |
本发明提供了一种具有气压敏感效应的碳/硅异质结新材料,该材料是通过磁控溅射的方法,将纯度为99.9%的石墨靶或者将含有0~10%(质量分数)的铁的铁-石墨复合靶溅射到抛光的硅基片上,形成一层厚度为20nm~200nm的膜。该碳/硅异质结新材料具有明显的气压敏感效应,即材料的电阻值随气压变化而变化,可以用于制备气压传感器,无需额外设计电容器,通过该材料的电阻变化可直接反映出气压的变化,具有体积小,可做成立方毫米级,易于集成,材料耐高温、耐腐蚀、性质稳定。 |
申请公布号 |
CN101013726B |
申请公布日期 |
2010.05.19 |
申请号 |
CN200710013464.6 |
申请日期 |
2007.02.02 |
申请人 |
中国石油大学(华东) |
发明人 |
薛庆忠;郝兰众;高熙礼;李群;郑庆彬 |
分类号 |
H01L29/84(2006.01)I;G01L9/06(2006.01)I;G01L1/18(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/84(2006.01)I |
代理机构 |
青岛高晓专利事务所 37104 |
代理人 |
杨大兴 |
主权项 |
一种具有气压敏感效应的碳/硅异质结新材料,其特征是,在一块0.5~1.0mm厚的抛光硅基片上,溅射一层类金刚石碳薄膜,薄膜的厚度为20~200nm。 |
地址 |
257061 山东省东营市东营区北二路271号 |