发明名称 液晶显示器及其制造方法
摘要 本发明提供液晶显示器及其制造方法。该液晶显示器的制造方法包括以下步骤:制备限定了分为薄膜晶体管区和存储区的像素部分的绝缘基板;在基板的整个表面上顺序地形成多晶硅膜和存储电极膜;对存储电极膜和多晶硅膜选择性地进行构图,以形成覆盖像素部分的像素图案;以及从像素图案选择性地去除薄膜晶体管区的存储电极膜,以在存储区中形成存储电极并同时在薄膜晶体管区中形成有源层,该有源层是由被存储电极暴露的多晶硅膜形成的。由于通过使用单个掩模的衍射曝光来形成有源层和存储电极,因此可以减少在制造薄膜晶体管的过程中使用的掩模的数量,以减少制造工艺步骤和制造成本。
申请公布号 CN101097370B 申请公布日期 2010.05.19
申请号 CN200610172282.9 申请日期 2006.12.30
申请人 乐金显示有限公司 发明人 李锡宇;金荣柱
分类号 G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/133(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I 主分类号 G02F1/1362(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 李辉
主权项 一种液晶显示器的制造方法,该制造方法包括以下步骤:制备限定了分为薄膜晶体管区和存储区的像素部分的绝缘基板;在所述基板的整个表面上顺序地形成多晶硅膜、绝缘膜和存储电极膜;在所述存储电极膜上形成遮挡膜;利用衍射曝光掩模对所述遮挡膜选择性地进行构图以形成所述遮挡膜,使得所述遮挡膜在所述像素部分的所述薄膜晶体管区上的部分比所述遮挡膜在所述像素部分的所述存储区上的部分要薄;利用经构图的所述遮挡膜对所述存储电极膜、所述绝缘膜和所述多晶硅膜进行构图;去除保留在所述薄膜晶体管区上的所述遮挡膜以在所述存储区形成存储电极并同时在所述薄膜晶体管区中形成有源层,所述有源层由被所述存储电极暴露的多晶硅膜形成;去除保留在所述存储电极上的所述遮挡膜;在具有所述有源层的所述基板上形成栅绝缘膜;分别在所述像素部分的所述薄膜晶体管区的所述有源层上形成所述像素部分的栅极,并在所述存储电极上形成公共线;在所述有源层中在所述像素部分的所述栅极的两侧的下方形成所述像素部分的源区和漏区;在具有所述像素部分的所述源区和漏区的所述基板上形成钝化膜;对所述钝化膜进行构图,以分别形成分别暴露所述像素部分的所述源区和漏区的第一接触孔和第二接触孔;用所述第一接触孔对所述钝化膜进行填充以形成所述像素部分的与所述像素部分的所述源区相连接的源极,还用所述第二接触孔对所述钝化膜进行填充以形成所述像素部分的与所述像素部分的所述漏区相连接的漏极;以及形成所述像素部分的源极图案和漏极图案,所述源极图案覆盖所述像素部分的所述源极,所述漏极图案覆盖所述像素部分的所述漏极。
地址 韩国首尔