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发明名称 A method for generating pattern data, a program for generating pattern data, a method for manufacturing a exposure mask and a method for forming a pattern
摘要
申请公布号 KR100957517(B1) 申请公布日期 2010.05.14
申请号 KR20030077847 申请日期 2003.11.05
申请人 发明人
分类号 H01L21/027;G03F1/36;G03F1/68;G03F1/70;G03F7/20 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
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