| 发明名称 |
Sputtering Target and Oxide Semiconductor Film |
| 摘要 |
A sputtering target containing oxides of indium (In), gallium (Ga) and zinc (Zn), which includes a compound shown by ZnGa2O4 and a compound shown by InGaZnO4. |
| 申请公布号 |
US2010108502(A1) |
申请公布日期 |
2010.05.06 |
| 申请号 |
US20070518988 |
申请日期 |
2007.11.30 |
| 申请人 |
IDEMITSU KOSAN CO., LTD. |
发明人 |
INOUE KAZUYOSHI;YANO KOKI;UTSUNO FUTOSHI |
| 分类号 |
C23C14/08;B27N3/02;C23C14/34 |
主分类号 |
C23C14/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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