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Ein optoelektronischer Halbleiterchip mit einer Halbleiterschichtenfolge mit einer Mehrzahl von übereinander angeordneten Schichten umfasst insbesondere eine aktive Schicht (4) mit einem aktiven Bereich (11), der geeignet ist, im Betrieb elektromagnetische Strahlung entlang einer Abstrahlrichtung (99) abzustrahlen, eine erste Gitterschicht (7) auf der aktiven Schicht (4), die entlang der Abstrahlrichtung (99) eine Mehrzahl von senkrecht zur Abstrahlrichtung (99) verlaufende, als Gitterlinien ausgebildete Streifen (70) mit dazwischen angeordneten Zwischenräumen (79) aufweist, und eine zweite Gitterschicht (8) auf der ersten Gitterschicht (7), die die Streifen (70) der ersten Gitterschicht (7) und die Zwischenräume (79) überdeckt und die ein transparentes Material aufweist, das durch ein nicht-epitaktisches Aufbringverfahren aufgebracht ist.
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