| 发明名称 | 曝光装置及元件制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明有关于一种曝光装置及元件制造方法，一曝光装置，根据液浸法而能高精度地进行曝光处理及测量处理。曝光装置(EX)，在投影光学系统(PL)的像面侧形成液体(LQ)的液浸区域(AR2)，透过投影光学系统(PL)与液浸区域(AR2)的液体(LQ)而使基板(P)曝光，其具备测量装置(60)，用以测量液浸区域(AR2)形成用的液体(LQ)的性质和/或成分。本发明还公开了元件制造方法及曝光装置的维护方法。 | ||
| 申请公布号 | CN101095213B | 申请公布日期 | 2010.05.05 |
| 申请号 | CN200580018359.0 | 申请日期 | 2005.06.07 |
| 申请人 | 尼康股份有限公司 | 发明人 | 白石健一 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人 | 寿宁 |
| 主权项 | 一种曝光装置，在投影光学系统的像面侧形成液体的液浸区域，并透过投影光学系统与液浸区域的液体使基板曝光，其特征在于具备：液体供应机构，用以由供应口供应液体；第1液体回收机构，用以由回收口回收通过由所述的液体供应机构的供应口所供应的液体所形成的液浸区域的液体；以及测量装置，用以测量液浸区域形成用的液体的性质和/或成分；所述的测量装置，测量由所述的第1液体回收机构的回收口所回收的液体。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||