发明名称 一种顶栅结构场致发射显示器后板及其制作方法
摘要 本发明公开了一种顶栅结构场致发射显示器后板及其制作方法,按照以下步骤:(1)制作阴极;(2)制作下层SiO2绝缘层;(3)制作绝缘介质层;(4)制作上层SiO2绝缘层;(5)制作顶删极;(6)制作阴极发射体,完成后板的制作。本发明的改进印刷型场致发射显示器后板的制作工艺,提高了顶栅结构FED后板栅极与阴极之间的绝缘性能,保证整个场致发射显示器的可靠性和稳定性。
申请公布号 CN101702395A 申请公布日期 2010.05.05
申请号 CN200910218652.1 申请日期 2009.10.29
申请人 彩虹集团公司 发明人 李军
分类号 H01J31/12(2006.01)I;H01J29/02(2006.01)I;H01J9/00(2006.01)I;H01J9/02(2006.01)I 主分类号 H01J31/12(2006.01)I
代理机构 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人 汪人和
主权项 一种顶栅结构场致发射显示器后板,包括玻璃基板(1)、印制在玻璃基板(1)上的阴极(2)、阴极(2)上的绝缘介质层(4)和玻璃基板(1)最上部的栅极(6),在阴极(2)上正交分布的栅极(6)之间设有阴极发射体(7),其特征在于:所述玻璃基板(1)上位于阴极(2)和绝缘介质层(4)之间设置有下层SiO2绝缘层(3),以及绝缘介质层(4)和栅极(6)之间设置有上层SiO2绝缘层(5)。
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