发明名称 硅片离心脱水架
摘要 本实用新型涉及一种硅片离心脱水架,其特征在于包括外架及内架,使用时,内架嵌装在外架中;所述内架包括铰接在一起的左架及右架,左架及右架上分别设有相对的多个V形容片槽,左架及右架的侧壁外分别设有楔块,左架及右架后部的相应位置上分别设有止块,左架及右架的侧壁开设有通孔。本实用新型结构简单,使用方便,采用内架及外架的结构,构成内架的左、右架铰接并在左、右架的外侧壁上设有楔块,并采用V形容片槽,从而消除硅片与容片槽之间的间隙,减少硅片由于脱水过程中的振动而引起的破损,提高硅片生产的合格率,降低硅片的生产成本。
申请公布号 CN201449994U 申请公布日期 2010.05.05
申请号 CN200920045487.X 申请日期 2009.05.19
申请人 宜兴市鼎科电子电力器材厂 发明人 周永清
分类号 H01L21/00(2006.01)I;H01L21/673(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 无锡华源专利事务所 32228 代理人 方为强
主权项 一种硅片离心脱水架,其特征在于:包括外架及内架,使用时,内架嵌装在外架中;所述外架为单面开口的长方体,外架的侧面及底面上开有多个脱水孔,两个相对的侧面外侧设有挂杆;所述内架包括铰接在一起的左架及右架,左架及右架上分别设有相对的多个V形容片槽,左架及右架的侧壁外分别设有楔块,左架及右架后部的相应位置上分别设有止块,左架及右架的侧壁开设有通孔。
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