发明名称 |
一种供体元件及其制造方法,以及一种成像方法 |
摘要 |
一种供体元件,可用在组装体中用于通过受到辐射而成像,所述供体元件包括基片、邻近所述基片的转移辅助层和转移层,所述转移辅助层包含一种或多种水溶性或者水可分散性的辐射吸收化合物,所述转移层邻近所述转移辅助层与基片相对。 |
申请公布号 |
CN101044030B |
申请公布日期 |
2010.05.05 |
申请号 |
CN200580035934.8 |
申请日期 |
2005.10.20 |
申请人 |
E·I·内穆尔杜邦公司 |
发明人 |
T·C·费尔德;R·W·埃弗森;C·弗格森;J·R·乔伊恩;M·洛根;R·P·潘克拉茨;F·C·小楚姆施特 |
分类号 |
B41M5/40(2006.01)I;B41M5/42(2006.01)I |
主分类号 |
B41M5/40(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
朱黎明 |
主权项 |
一种用于辐射诱导热转移工艺的供体元件,它包括:基片;邻近所述基片放置的转移辅助层,所述转移辅助层源自包括一种或多种水溶性或水可分散性的辐射吸收化合物的含水组合物;邻近所述转移辅助层放置在与所述基片相反一侧的转移层,所述转移层包括一种能够在所述转移辅助层有选择地受到辐射时以形成图像的方式从所述供体元件转移至相邻的受体元件的材料,所述转移辅助层是一个在线涂覆的层。 |
地址 |
美国特拉华州 |