发明名称 |
Levenson型相移掩模及其制造方法 |
摘要 |
一种Levenson型相移掩模,具有形成在透明衬底上的遮光部分和开口。部分挖掘开口处的透明衬底或者在开口处的透明衬底上部分设置透明膜,以形成移相器开口和非移相器开口。移相器开口和非移相器开口重复存在于掩模中。移相器开口将透射光的相位反相。该Levenson型相移掩模具有从两侧插入在相邻的相同类型的开口之间的遮光部分图案。该遮光部分图案受到偏移修正,相对于通过掩模设计设定的预定设计线宽,所述偏移修正使遮光部分图案以预定量向其两侧扩展。 |
申请公布号 |
CN1973244B |
申请公布日期 |
2010.05.05 |
申请号 |
CN200580020602.2 |
申请日期 |
2005.04.19 |
申请人 |
凸版印刷株式会社 |
发明人 |
小岛洋介;小西敏雄;田中启司;大泷雅央;佐佐木淳 |
分类号 |
G03F1/08(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/08(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
王英 |
主权项 |
一种Levenson型相移掩模,包括形成在透明衬底上的遮光部分和开口,部分挖掘所述开口处的所述透明衬底或者在所述开口处的所述透明衬底上部分设置遮光膜,以形成移相器开口和非移相器开口,所述移相器开口和所述非移相器开口重复存在于所述掩模中,所述移相器开口将透射光的相位反相,该Levenson型相移掩模的特征在于具有:设置在相邻的相同类型的所述移相器开口之间的第一遮光部分图案,以及设置在所述移相器开口与所述非移相开口器之间的第二遮光部分图案;所述第一遮光部分图案受到偏移修正,相对于通过掩模设计设定的预定设计线宽,该偏移修正使所述第一遮光部分图案以预定量向其两侧扩展,并且所述第一遮光部分图案在所述移相器开口一侧没有底切;以及所述第二遮光部分图案在所述移相器开口一侧具有底切。 |
地址 |
日本东京都 |