发明名称 准共光程外差干涉位移测量系统
摘要 本发明公开了一种准共光程外差干涉位移测量系统,包含:一外差光源,分为一参考光与一信号光;一光栅,使该信号光入射该光栅而产生一绕射光;一偏极分光镜,使该绕射光分为一第一绕射光与一第二绕射光;一个以上偏振板,使该参考光穿过该些偏振板而产生一参考干涉光,且该第一绕射光穿过该些偏振板而产生一第一干涉光,而该第二绕射光穿过该些偏振板而产生一第二干涉光;一信号处理装置,量得该参考干涉光、该第一干涉光与该第二干涉光的相位差而可得该光栅的位移量。本发明具有外差干涉相位测量的高灵敏度,且具有光学架构不受外在环境扰动的高稳定性,以直接测量因位移所造成的相位变化量以达到高测量精度。
申请公布号 CN1991297B 申请公布日期 2010.05.05
申请号 CN200510132985.4 申请日期 2005.12.31
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 许正治;吴乾埼;陈朝荣;王振宇;温博浚;翁汉甫
分类号 G01B9/02(2006.01)I;G01B11/02(2006.01)I 主分类号 G01B9/02(2006.01)I
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人 梁挥;徐金国
主权项 一种准共光程外差干涉位移测量系统,其特征在于,包含:一外差光源,产生具有一参考光与一信号光的光,该参考光和信号光为两正交的线偏振光,该外差光源输出包含两个不同频率的光波;一光栅,使该信号光入射该光栅而产生一正绕射光与一负绕射光,该正绕射光具有两正交的线偏振光,且该负绕射光具有两正交的线偏振光;一偏极分光镜,使该正绕射光与该负绕射光中的两正交的线偏振光分开,且该正绕射光的P偏振光与该负绕射光的S偏振光重合成一第一绕射光,而该正绕射光的S偏振光与该负绕射光的P偏振光重合成一第二绕射光;一个以上偏振板,使该参考光穿过该些偏振板而产生一参考干涉光,且该第一绕射光穿过该些偏振板而产生一第一干涉光,而该第二绕射光穿过该些偏振板而产生一第二干涉光;及一信号处理装置,接受该参考干涉光、该第一干涉光与该第二干涉光,当该光栅移动时,该信号处理装置量得该参考干涉光、该第一干涉光与该第二干涉光的相位差而可得该光栅的位移量。
地址 中国台湾新竹县