发明名称 光刻装置和器件制造方法
摘要 本发明提供了一种具有改进的传送单元的光刻装置。该光刻装置包括一进行涉及可换物件的光刻处理的处理单元,其中该处理单元包括一提供辐射光束的照射系统,一配置成支撑构图部件的支撑结构,该构图部件可将期望的图案赋予给辐射光束,一配置成保持基底的基底保持架,以及一配置成将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统。光刻装置还包括一传输单元,其包括一单个机械手。该单个机械手配置成将第一可换物件从装载站传输到处理单元,和将第二可换物件从处理单元传输到卸载站。
申请公布号 CN1721998B 申请公布日期 2010.05.05
申请号 CN200510078661.7 申请日期 2005.06.21
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 J·J·库伊特;P·R·巴特拉;D·-J·比沃伊特;J·-F·霍格坎普
分类号 G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 王波波
主权项 一种光刻装置,包括:(a)一配置成进行涉及可换物件的光刻处理的处理单元,该处理单元包括:一调节辐射光束的照射系统;一配置成支撑构图部件的支撑结构,该构图部件将期望的图案赋予给辐射光束;一配置成保持基底的基底保持架;以及一配置成将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统;以及(b)一传输单元,其包括一单个机械手,机械手配置成将第一可换物件从装载站传输到处理单元,和将第二可换物件从处理单元传输到卸载站,其中所述机械手包括第一臂和第二臂,装载站、卸载站、处理单元和机械手相对彼此布置成使得第一可换物件从装载站传输到处理单元以及第二可换物件从处理单元传输到卸载单元大体上是通过围绕旋转轴旋转的第一臂和第二臂进行的,所述旋转轴的位置相对于处理单元是固定的,所述机械手还包括一第一物件输送装置,第一物件输送装置将第一可换物件从装载站传输到处理单元,以及一第二物件输送装置,第二物件输送装置将第二可换物件从处理单元传输到卸载站,且所述第一物件输送装置与第一臂连接,第二物件输送装置与第二臂连接,该第一臂和第二臂围绕旋转轴只做旋转动作。
地址 荷兰维尔德霍芬