发明名称 |
稳定地制造微孔膜的方法、以及该微孔膜在核酸分离纯化方法中的用途 |
摘要 |
一种制造多孔膜的方法,该方法包括:使聚合物溶液在载体上流延,从而形成经流延的聚合物溶液,其中,在流延之前的所述聚合物溶液中,聚合物被溶解于由良溶剂、不良溶剂和非溶剂形成的混合物中;使所述经流延的聚合物溶液干燥,从而形成流延薄膜;以及对流延薄膜进行相分离,其中多孔膜是采用以下条件制备的:流延表面的温度低于聚合物溶液的温度,并且聚合物溶液的温度变化和流延表面的温度变化分别被保持在±3.0℃之内。 |
申请公布号 |
CN101090764B |
申请公布日期 |
2010.05.05 |
申请号 |
CN200580023665.3 |
申请日期 |
2005.09.15 |
申请人 |
富士胶片株式会社 |
发明人 |
田中秀明;牧野快彦 |
分类号 |
B01D71/16(2006.01)I;C08J9/36(2006.01)I;B01J20/24(2006.01)I;C12N15/00(2006.01)I;C08J9/28(2006.01)I;C08L1/12(2006.01)I |
主分类号 |
B01D71/16(2006.01)I |
代理机构 |
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 |
代理人 |
丁业平;张天舒 |
主权项 |
一种制造多孔膜的方法,该方法包括:使聚合物溶液在载体上流延,从而形成经流延的聚合物溶液,其中,在流延之前的所述聚合物溶液中,聚合物被溶解于由良溶剂、不良溶剂和非溶剂形成的混合物中;使所述的经流延的聚合物溶液干燥,从而形成流延薄膜;以及对所述的流延薄膜进行相分离,其中,所述多孔膜是采用以下条件制备的:流延表面的温度低于所述聚合物溶液的温度,并且所述聚合物溶液的温度变化和所述流延表面的温度变化分别被保持在±3.0℃之内。 |
地址 |
日本东京 |