发明名称 | 研磨液组合物 | ||
摘要 | 本发明提供一种研磨液组合物,其含有有机氮化合物、有机多元酸、研磨材料和水,其中有机氮化合物在分子内具有两个或更多个氨基或亚氨基,或者在分子内具有1个或多个氨基以及1个或多个亚氨基;以及提供使用该研磨液组合物的基板的制造方法和基板表面污染的减少方法。该研磨液组合物例如可以适用于存储硬盘等硬盘用基板的制造工序。 | ||
申请公布号 | CN1781971B | 申请公布日期 | 2010.05.05 |
申请号 | CN200510125376.6 | 申请日期 | 2005.11.16 |
申请人 | 花王株式会社 | 发明人 | 藤井滋夫;末永宪一 |
分类号 | C08J5/14(2006.01)I | 主分类号 | C08J5/14(2006.01)I |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 陈建全 |
主权项 | 一种硬盘基板用研磨液组合物,该硬盘基板为镀覆有Ni-P的铝合金基板;所述研磨液组合物含有有机氮化合物、有机多元酸、研磨材料和水,其中,所述有机氮化合物选自于:聚烷撑亚胺类、二乙撑三胺、三乙撑四胺、四乙撑五胺、双(3-氨丙基)胺以及1,3-丙二胺;而且所述有机多元酸选自于:甲二磺酸、乙二磺酸、苯酚二磺酸、萘二磺酸、草酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、马来酸、富马酸、衣康酸、苹果酸、酒石酸、柠檬酸、异柠檬酸、苯二甲酸、氨三乙酸、乙二胺四乙酸、羟基亚乙基-1,1-二膦酸、膦酰基丁烷三羧酸以及乙二胺四亚甲基膦酸;所述研磨材料是含有α-氧化铝和选自于γ-氧化铝、δ-氧化铝、θ-氧化铝、η-氧化铝、κ-氧化铝以及它们的混合物之中的中间氧化铝的磨粒;所述有机氮化合物在研磨液组合物中的含量为0.001~0.5重量%;所述有机氮化合物和所述有机多元酸的含量的重量比为1/1000~1/2。 | ||
地址 | 日本东京 |