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经营范围
发明名称
Method for forming gate buffer spacer of semiconductor device
摘要
申请公布号
KR100955929(B1)
申请公布日期
2010.05.03
申请号
KR20030051579
申请日期
2003.07.25
申请人
发明人
分类号
H01L21/334
主分类号
H01L21/334
代理机构
代理人
主权项
地址
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