发明名称 |
Oxidations- und Reinigungsverfahren für Siliziumscheiben |
摘要 |
Oxidations- und Reinigungsverfahren für Siliziumscheiben, bei welchem die Siliziumscheiben an zumindest einem Teil ihrer Oberfläche mit einer Siliziumoxidschicht versehen werden (12; 24), bevor sie in einer alkalischen Ätzlösung geätzt werden (14; 26) und sie in einer Lösung geätzt werden (16), welche eine metallische Verunreinigungen oxidierende Säure enthält, wobei wenigstens ein Teilbereich der Siliziumoxidschicht ungeschützt der Ätzlösung und der Säure ausgesetzt wird, und bei welchem die Siliziumscheiben nach den Ätzvorgängen in deionisiertem Wasser gespült werden (18), wobei der wenigstens eine ungeschützte Teilbereich der Siliziumoxidschicht mindestens zum Teil auf den Siliziumscheiben belassen wird und die Siliziumscheiben nach dem Spülen (18; 32) getrocknet werden (20).
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申请公布号 |
DE102008056455(B3) |
申请公布日期 |
2010.04.29 |
申请号 |
DE200810056455 |
申请日期 |
2008.11.07 |
申请人 |
CENTROTHERM PHOTOVOLTAICS TECHNOLOGY GMBH |
发明人 |
ESTURO-BRETON, AINHOA;KELLER, STEFFEN |
分类号 |
H01L21/306;H01L21/302;H01L31/18 |
主分类号 |
H01L21/306 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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