Herstellungsverfahren einer Halbleitervorrichtung und Reinigungszusammensetzung dafür,申请号DE20031031033-传众专利搜索

发明名称	Herstellungsverfahren einer Halbleitervorrichtung und Reinigungszusammensetzung dafür
摘要
申请公布号	DE10331033(B4)	申请公布日期	2010.04.29
申请号	DE20031031033	申请日期	2003.07.09
申请人	EKC TECHNOLOGY K.K. R&D BUSINESS PARK BLDG. D-3F;PANASONIC CORP.;RENESAS TECHNOLOGY CORP.	发明人	KANNO, ITARU;ASAOKA, YASUHIRO;HIGASHI, MASAHIKO;HIDAKA, YOSHIHARU;KISHIO, ETSURO;AOYAMA, TETSUO;SUZUKI, TOMOKO;HIRAGA, TOSHITAKA;NAGAI, TOSHIHIKO
分类号	G03F7/42;H01L21/304;C11D7/08;C11D7/26;C11D7/32;C11D7/34;C11D7/50;C11D11/00;H01L21/02;H01L21/311	主分类号	G03F7/42
代理机构		代理人
主权项
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